Magnetic field dependence of critical current density and microstructure in Sm_<1+x>B_<2-x>Cu_3O_y films on metallic substrate
Magnetic field dependence of critical current density and microstructure in Sm_<1+x>B_<2-x>Cu_3O_y films on metallic substrate
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金属基底上Sm_<1x>B_<2-x>Cu_3O_y薄膜临界电流密度和微观结构的磁场依赖性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
その他10名
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Miura et al.;その他10名
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不同工艺制备的Sm_<1x>B_<2-x>Cu_3O_y薄膜中的位错密度和临界电流密度
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Jpn.J.Appl.Phys. Vol.45
影响因子：
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作者：
M.Miura et al.;その他8名
通讯作者：
その他8名
高 Jc Sm1+xBa2−xCu3O6+δ 薄膜的面内排列和超导特性
影响因子：
1.7
作者：
M. Miura;M. Itoh;Y. Yoshida;Y. Ichino;Y. Takai;K. Matsumoto;A. Ichinose;S. Horii;M. Mukaida
通讯作者：
M. Mukaida
通过引入低 Tc 纳米颗粒增强外延 Sm1 xBa2-xCu3Oy 薄膜中的通量钉扎
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Miura;Y. Yoshida;Y. Ichino;Y. Takai;K. Matsumoto;A. Ichinose;S. Horii;M. Mukaida
通讯作者：
M. Mukaida
添加低T_c纳米颗粒分散体增强Sm_<1x>Ba_<2-x>Cu_3O_y薄膜的通量钉扎
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Physica C Vol. 445-448
影响因子：
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作者：
M.Miura et al.;その他7名
通讯作者：
その他7名
Sm/Ba 替代对低温生长 SmBCO 薄膜磁场中 J/sub c/ 的影响
影响因子：
1.8
作者：
M. Miura;M. Itoh;Y. Ichino;Y. Yoshida;Y. Takai;K. Matsumoto;A. Ichinose;S. Horii;M. Mukaida
通讯作者：
M. Mukaida