Study on the Polycrystalline Silicon Films Deposited by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition
Study on the Polycrystalline Silicon Films Deposited by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition
复制标题
电感耦合等离子体化学气相沉积多晶硅薄膜的研究
DOI：
10.1557/proc-685-d5.2.1
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S. Pietruszko
中科院分区：
文献类型：
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作者：
B. Moon;J. H. Youn;S. Won;Jin Jang;S. Pietruszko
以氢化微晶硅为初始薄膜的激光脱氢和激光晶化多晶硅TFT
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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作者：
佐藤旦;梅津渉;山本健一;神原潤二;原明人;北原邦紀
通讯作者：
北原邦紀