Conical etched ion tracks in SiO2 characterised by small angle X-ray scattering
Conical etched ion tracks in SiO2 characterised by small angle X-ray scattering
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SiO2 中的锥形蚀刻离子轨迹以小角 X 射线散射为特征
DOI：
10.1016/j.nimb.2017.10.020
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
P. Kluth
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Hadley;C. Notthoff;P. Mota-Santiago;U.H. Hossain;S. Mudie;M.E. Toimil-Molares;C. Trautmann;P. Kluth
影响因子：
64.8
作者：
YOUNG, DA
通讯作者：
YOUNG, DA
纳米科学与技术中的离子束
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
作者：
R. Hellborg;H. Whitlow;Yanwen Zhang
通讯作者：
Yanwen Zhang
使用小角 X 射线散射测量非晶态 SiO2 中的潜迹
DOI：
10.1016/j.nimb.2008.03.182
发表时间：
2008
影响因子：
1.3
作者：
P. Kluth;C. Schnohr;D. Sprouster;A. Byrne;D. Cookson;M. Ridgway
通讯作者：
M. Ridgway