Influence of in-situ and postannealing technique on tribological performance of NiTi SMA thin films
Influence of in-situ and postannealing technique on tribological performance of NiTi SMA thin films
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原位和后退火技术对 NiTi SMA 薄膜摩擦学性能的影响
DOI：
10.1016/j.surfcoat.2015.07.012
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发表时间：
2015
影响因子：
5.4
通讯作者：
Soroush Momeni
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Wolfgang Tillmann;Soroush Momeni
磁控溅射NiTi薄膜通过两种方便的技术结晶：（i）退火后和（ii）在沉积过程中的原位退火。退火参数（温度和时间）通过采用每种技术保持恒定。采用X射线衍射（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）、四探针电阻率测量、纳米压痕、钉盘、划痕和三维光学显微镜等测试手段对薄膜的微观结构、形貌、相变行为、力学性能和摩擦学性能进行了研究。结果表明，尽管采用相似的退火温度和时间，退火后和原位退火技术可以不同地影响NiTi薄膜的性能。
Magnetron sputtered NiTi thin films were crystallized through two convenient techniques: (i) postannealing and (ii) in-situ annealing during the deposition. The annealing parameters (temperature and time) were kept constant by employing each technique. The microstructure, morphology, phase transformation behavior, mechanical and tribological properties of these thin films were investigated using X-ray diffraction (XRD), field emission scanning electron microscopy (FESEM), 4-point probe resistivity measurement, nanoindentation test, pin-on-disc, scratch test and three dimensional (3D) optical microscopy. The results show how postannealing and in-situ annealing techniques can differently affect properties of NiTi thin films in spite of employing similar annealing temperature and time.
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G. Shaw
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发表时间：
2010
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影响因子：
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通讯作者：
S. Mohan
DOI：
10.1590/s1678-58782009000400007
发表时间：
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通讯作者：
R. Viana;Á. R. Machado
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6.2
作者：
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通讯作者：
Hoffmann, Fabian
影响因子：
4
作者：
W. Tillmann;S. Momeni
通讯作者：
W. Tillmann;S. Momeni