Epitaxially grown flat MnSi ultrathin film on Si(111)
Epitaxially grown flat MnSi ultrathin film on Si(111)
复制标题
Si(111) 上外延生长平坦 MnSi 超薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiroshi Tochihara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shougo Higashi;Yuichi Ikedo;Pavel Kocan;Hiroshi Tochihara
Si(111) 表面上单硅化锰的密度泛函研究：成膜与岛形核
影响因子：
3.7
作者：
M. Hortamani;P. Kratzer;M. Scheffler
通讯作者：
M. Scheffler
硅化锰单晶和沉积在 Si(111) 上的薄膜：比较光谱研究
影响因子：
1.9
作者：
E. Carleschi;E. Magnano;M. Zangrando;F. Bondino;A. Nicolaou;F. Carbone;D. Marel;F. Parmigiani
通讯作者：
F. Parmigiani
影响因子：
1.9
作者：
Miyoko Tanaka;Qi Zhang;M. Takeguchi;K. Furuya
通讯作者：
K. Furuya