HiPIMS ‐ Technologie und Anwendungsfelder
HiPIMS ‐ Technologie und Anwendungsfelder
复制标题
HiPIMS - 技术和分析
DOI：
10.1002/vipr.200900377
复制
发表时间：
2009
影响因子：
0.1
通讯作者：
G. Bräuer
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
R. Bandorf;Michael Vergöhl;Oliver Werner;Volker Sittinger;G. Bräuer
由于在过去的几年中，平面磁控管的安装速度很快，在工业化中，磁控管的安装速度很快，因此，在Sturm erobert中，磁控管的安装速度很快。Zahlreiche Meilensteine在30年前就开始了。最重要的是Rohrmagnetron（"CMAG”管）和Einführung gepulster Plasmen。HiPIMS或HPPMS是一种创新的、具有新质量的Schritt zu Schichten。HiPIMS在兆瓦特范围内产生脉冲，因此靶向板的激光强度为1000 W/cm 2，梅尔韦尔登（常规：20 - 50 W/cm 2）。
Seit der Einführung der planaren Magnetronkatode Mitte der siebziger Jahre hat die Magnetronzerstäubung fast alle Industriezweige, für die dünne Schichten eine Rolle spielen, im Sturm erobert. Zahlreiche Meilensteine wurden in den zurückliegenden 30 Jahren gesetzt. Zu den wichtigsten zählen sicher das Rohrmagnetron („CMAG”︁) und die Einführung gepulster Plasmen. Hochleistungs‐Impuls‐Magnetronsputtern (HiPIMS) oder auch Hochleistungs‐Puls‐Magnetronsputtern (HPPMS) ist ein weiterer innovativer Schritt zu Schichten mit neuer Qualität. HiPIMS nutzt Pulse im Megawattbereich, so dass an der Targetoberfläche Leistungsdichten von 1000 W/cm2 und mehr erzeugt werden (konventionell: 20 – 50 W/cm2).
HIPIMS系统中溅射过程的离子能量分布和效率
影响因子：
--
作者：
Burcalova K
通讯作者：
Burcalova K