Orthogonal Deprotection Strategy of Fmoc Provides Improved Synthesis of Sensitive Peptides: Application to Z-Arg-Lys-AOMK.
Orthogonal Deprotection Strategy of Fmoc Provides Improved Synthesis of Sensitive Peptides: Application to Z-Arg-Lys-AOMK.
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DOI：
10.1021/acsomega.3c08629
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发表时间：
2024-01-23
期刊：
影响因子：
4.1
通讯作者：
Gerwick, William H.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Almaliti, Jehad;Alhindy, Momen;Yoon, Michael C.;Hook, Vivian;Molinski, Tadeusz F.;O'Donoghue, Anthony J.;Gerwick, William H.
肽合成中的保护基团 (PG) 启发了先进的设计原则，其中结合了选择性 C 和 N 末端以及侧链脱保护的“正交性”。传统酸稳定的 9-芴基甲氧基羰基 (Fmoc) 基团是固相和溶液相合成中最广泛使用的 N-保护基团之一。尽管 Fmoc 具有多功能性，但通过去除 Fmoc 基团来脱保护以暴露伯胺需要使用碱性仲胺亲核试剂，但这种策略对带有反应性亲电子基团的敏感分子提出了挑战。在肽的后期合成中，PG 多功能性的扩展、可调节的正交性将为合成设计和实施增加灵活性。在这里，我们报道了一种在弱酸性条件下利用氢解合成 Z-Arg-Lys-酰氧基甲基酮（Z-R-K-AOMK）的新型 Fmoc 脱保护方法。这种新方法不仅对于合成含有高反应性亲电子试剂或其他类似敏感官能团的复杂肽的 Fmoc 脱保护有价值，这些复杂肽与传统的 Fmoc 脱保护条件不相容，而且还能耐受底物中存在的 N-Boc 基团。
Protecting groups (PGs) in peptide synthesis have inspired advanced design principles that incorporate “orthogonality” for selective C- and N-terminus and side-chain deprotections. The conventionally acid-stable 9-fluorenylmethoxycarbonyl (Fmoc) group is one of the most widely used N-protection groups in solid- and solution-phase synthesis. Despite the versatility of Fmoc, deprotection by the removal of the Fmoc group to unmask primary amines requires the use of a basic secondary amine nucleophile, but this stratagem poses challenges in sensitive molecules that bear reactive electrophilic groups. An expansion of PG versatility, a tunable orthogonality, in the late-stage synthesis of peptides would add flexibility to the synthetic design and implementation. Here, we report a novel Fmoc deprotection method using hydrogenolysis under mildly acidic conditions for the synthesis of Z-Arg-Lys-acyloxymethyl ketone (Z-R-K-AOMK). This new method is not only valuable for Fmoc deprotection in the synthesis of complex peptides that contain highly reactive electrophiles, or other similar sensitive functional groups, that are incompatible with traditional Fmoc deprotection conditions but also tolerant of N-Boc groups present in the substrate.
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