H.Yoshikawa: "The development of angle resolved XPS equipment at SPring-8 BL15XU"Journal of Surface Analysis. 9. 374-377 (2002)
H.Yoshikawa: "The development of angle resolved XPS equipment at SPring-8 BL15XU"Journal of Surface Analysis. 9. 374-377 (2002)
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H.Yoshikawa：“SPring-8 BL15XU 角度解析 XPS 设备的开发”表面分析杂志。
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基于腔衰荡激光光谱的高剂量率传感方法的发展
影响因子：
1.2
作者：
H. Tomita;Kenichi Watanabe;J. Kawarabayashi;T. Iguchi;N. Nariyama
通讯作者：
N. Nariyama
DOI：
10.1007/s11661-006-1072-0
发表时间：
2006-04
期刊：
Metallurgical and Materials Transactions A
影响因子：
--
作者：
H. Toda;T. Ohgaki;K. Uesugi;M. Kobayashi;K. Kuroda;T. Kobayashi;M. Niinomi;T. Akahori;
通讯作者：
H. Toda;T. Ohgaki;K. Uesugi;M. Kobayashi;K. Kuroda;T. Kobayashi;M. Niinomi;T. Akahori;
影响因子：
4.6
作者：
Toshihisa Tanaka;M. Fujita;A. Takeuchi;Yoshio Suzuki;K. Uesugi;Y. Doi;T. Iwata
通讯作者：
Toshihisa Tanaka;M. Fujita;A. Takeuchi;Yoshio Suzuki;K. Uesugi;Y. Doi;T. Iwata
影响因子：
8.6
作者：
Horiba, K;Taguchi, M;Shin, S
通讯作者：
Shin, S
GafChromic 薄膜对同步加速器辐射极高剂量分布的响应。
DOI：
10.1016/j.apradiso.2004.10.013
发表时间：
2005
期刊：
Applied radiation and isotopes : including data, instrumentation and methods for use in agriculture, industry and medicine
影响因子：
--
作者：
N. Nariyama
通讯作者：
N. Nariyama