Surface coating of small SiO2 particles with a WO_3 thin film by barrel-sputtering method
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滚筒溅射法在小SiO2颗粒表面沉积WO_3薄膜
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takayuki Abe et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Nakayama;S.Goto;Y.Uchimoto;M.Wakihara;Y.Kitajima;T.Miyanaga;I.Watanabe;Yoshiharu Uchimoto 他;M.Ishikawa;M.Ishikawa;M.Morita;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;M.Ishikawa;I.Murayama;M.Ishikawa;M.Ishikawa;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Takayuki Abe et al.;Masanori Hara et al.;Takayuki Abe et al.;北見知士 他;Tomohito kitami et al.;Takayuki Abe et al.;N.Kumada et al.;Akira Taguchi et al.;Akira Taguchi et al.;Mitsuhiro Inoue et al.;Takayuki Abe et al.
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通过等离子体 CVD 封装磨料颗粒
DOI：
10.1016/s0257-8972(03)00200-7
发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Karches;M. Morstein;P. Rohr
通讯作者：
P. Rohr
DOI：
10.1016/0168-583x(94)95200-0
发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
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作者：
H. Müller;W. Ensinger;G. Frech;G. Wolf
通讯作者：
G. Wolf
通过离子束溅射在氧化铝粉末表面沉积贵金属
DOI：
10.1016/s0168-583x(98)00173-6
发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
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作者：
W. Ensinger;H. Müller
通讯作者：
H. Müller
影响因子：
6.2
作者：
Abe, T;Akamaru, S;Honda, Y
通讯作者：
Honda, Y
DOI：
10.1016/0921-5093(91)90615-t
发表时间：
1991
期刊：
影响因子：
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作者：
H. Schils;M. Heuberger;H. Frey;H. Jehn;R. Telle;C. Raub
通讯作者：
C. Raub