Thermal Instability of Effective Work Function of Metal/HfLaSiO Gate Stacks
Thermal Instability of Effective Work Function of Metal/HfLaSiO Gate Stacks
复制标题
金属/HfLaSiO栅叠层有效功函数的热不稳定性
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
有村拓晃
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Hashimoto;et al.;有村拓晃
适用于高级 CMOS 器件的耐热性高品质 HfN/HfO/sub 2/栅极堆叠
DOI：
10.1109/iedm.2003.1269175
发表时间：
2003
期刊：
IEEE International Electron Devices Meeting 2003
影响因子：
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作者：
H. Yu;J. Kang;J.D. Chen;C. Ren;Y.T. Hou;S. Whang;M. Li;D. Chan;K. Bera;C. Tung;A. Du;D. Kwong
通讯作者：
D. Kwong