Metallic delafossite thin films for unique device applications
Metallic delafossite thin films for unique device applications
复制标题
用于独特设备应用的金属铜铁矿薄膜
DOI：
10.1063/5.0097269
复制
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
6.1
通讯作者：
Yoshinori Okada
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Takayuki Harada;Yoshinori Okada
登录
查看更多内容
影响因子：
1.7
作者：
H. Takatsu;S. Yonezawa;S. Mouri;S. Nakatsuji;Koichiro Tanaka;Y. Maeno
通讯作者：
H. Takatsu;S. Yonezawa;S. Mouri;S. Nakatsuji;Koichiro Tanaka;Y. Maeno
DOI：
10.1073/pnas.2113185118
发表时间：
2021-11-23
影响因子：
11.1
作者：
McGuinness PH;Zhakina E;König M;Bachmann MD;Putzke C;Moll PJW;Khim S;Mackenzie AP
通讯作者：
Mackenzie AP
影响因子：
38.3
作者：
Hanneken, Christian;Otte, Fabian;Heinze, Stefan
通讯作者：
Heinze, Stefan
<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML"><mml:msub><mml:mi mathvariant="normal" 中非常规电子输运的介观有限尺寸效应
影响因子：
3.4
作者：
Georgios Varnavides;Yaxian Wang;P. Moll;P. Anikeeva;P. Narang
通讯作者：
P. Narang
LaAlO3/SrTiO3 和块体 SrTiO3 中电子迁移率的普遍性
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
F. Trier;K. Reich;D. Christensen;Y. Zhang;H. Tuller;Y. Chen;B. Shklovskii;N. Pryds
通讯作者：
N. Pryds