Plasmonic properties of nonstoichiometric zirconium nitride, oxynitride thin films, and their bilayer structures
Plasmonic properties of nonstoichiometric zirconium nitride, oxynitride thin films, and their bilayer structures
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非化学计量氮化锆、氮氧化物薄膜及其双层结构的等离子体特性
DOI：
10.1103/physrevmaterials.5.065201
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发表时间：
2021-06
影响因子：
3.4
通讯作者：
Wang Zhi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Guo Qian;Wang Tianrun;Ren Yuehong;Ran Yujing;Gao Chang;Lu Huiping;Jiang Zhaotan;Wang Zhi
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影响因子：
1.7
作者：
I. Milošev;H. Strehblow;M. Gaberšček;B. Navinšek
通讯作者：
I. Milošev;H. Strehblow;M. Gaberšček;B. Navinšek
DOI：
10.4028/www.scientific.net/msf.325-326.335
发表时间：
2000-01
期刊：
Materials Science Forum
影响因子：
--
作者：
L. Johansson;H. Johansson
通讯作者：
L. Johansson;H. Johansson
影响因子：
3.7
作者：
Catellani, Alessandra;Calzolari, Arrigo
通讯作者：
Calzolari, Arrigo
影响因子：
2.2
作者：
S. Kurth;J. Perdew
通讯作者：
S. Kurth;J. Perdew
影响因子：
10.8
作者：
Chalabi, Hamidreza;Schoen, David;Brongersma, Mark L.
通讯作者：
Brongersma, Mark L.