Soft Solution Processings : Concept and Realization of Direct Fabrication of Shaped eramics (Nano-Crystals, Whiskers, Films, and/or Patterns) in Solutions wihtout Post-Firing
Soft Solution Processings : Concept and Realization of Direct Fabrication of Shaped eramics (Nano-Crystals, Whiskers, Films, and/or Patterns) in Solutions wihtout Post-Firing
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软溶液加工：在溶液中直接制造成形陶瓷（纳米晶体、晶须、薄膜和/或图案）而无需后烧制的概念和实现
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masahiro Yoshimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N.Sakamoto;T.Fujino;T.Watanabe;M.Yoshimura;Masahiro Yoshimura
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影响因子：
3.2
作者：
Ahniyaz, A;Fujiwara, T;Yoshimura, M
通讯作者：
Yoshimura, M
采用 100 °C 软溶液加工同时直接制备锂钴氧化物薄膜和粉末
影响因子：
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作者：
Kyooseung Han;Seung‐Wan Song;Tomoaki Watanabe;M. Yoshimura
通讯作者：
M. Yoshimura
用于直接制造 LiMO2（M=Ni 和 Co）薄膜的软溶液处理
影响因子：
3.2
作者：
Kyooseung Han;Seung‐Wan Song;Shunsuke Tsurimoto;Hirofumi Fujita;Itsuro Sasagawa;K. Choi;Hyun;M. Yoshimura
通讯作者：
M. Yoshimura
在 20−200 °C 下使用软溶液处理一步合成电化学活性 LiMO2（M = Ni 和 Co）薄膜电极
影响因子：
8.6
作者：
Kyooseung Han;Seung‐Wan Song;M. Yoshimura
通讯作者：
M. Yoshimura
DOI：
10.1016/b978-081551445-9.50003-9
发表时间：
2001
期刊：
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影响因子：
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作者：
K. Byrappa;M. Yoshimura
通讯作者：
M. Yoshimura