Sputtering Deposition with Impurities: Another Key Parameter to Control Film Structures
Sputtering Deposition with Impurities: Another Key Parameter to Control Film Structures
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杂质溅射沉积：控制薄膜结构的另一个关键参数
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
N. Itagaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takuya Iwasaki;Yoshifumi Morita;Kenji Watanabe;Takashi Taniguchi;N. Itagaki
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