Novel high-efficiency plasma nitriding process utilizing a high power impulse magnetron sputtering discharge
Novel high-efficiency plasma nitriding process utilizing a high power impulse magnetron sputtering discharge
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利用高功率脉冲磁控溅射放电的新型高效等离子氮化工艺
DOI：
10.1116/6.0003277
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发表时间：
2024
影响因子：
2.9
通讯作者：
Ehiasarian A
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ehiasarian A
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DOI：
--
发表时间：
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