Influence of annealing on characteristics of tin disulfide thin films by vacuum thermal evaporation
Influence of annealing on characteristics of tin disulfide thin films by vacuum thermal evaporation
复制标题
退火对真空热蒸发二硫化锡薄膜特性的影响
DOI：
10.1016/j.tsf.2012.03.050
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发表时间：
2012-05
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Shen, Xinjie1, 2
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Shi, Chengwu1, 2;Chen, Zhu1, 2;Shi, Gaoyang1, 2;Sun, Renjie1;Zhan, Xiaoping1, 2;Shen, Xinjie1, 2
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影响因子：
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作者：
Sánchez-Juárez, A;Tiburcio-Silver, A;Ortiz, A
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Ortiz, A
影响因子：
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作者：
Qing Yang;K. Tang;Chunrui Wang;J. Zuo;Daoyuan Zhang;Y. Qian
通讯作者：
Qing Yang;K. Tang;Chunrui Wang;J. Zuo;Daoyuan Zhang;Y. Qian
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作者：
T. Satoh;Y. Hashimoto;S. Shimakawa;S. Hayashi;T. Negami
通讯作者：
T. Satoh;Y. Hashimoto;S. Shimakawa;S. Hayashi;T. Negami
影响因子：
2.1
作者：
J. Malaquias;Paulo Fernandes;P. Salomé;A. D. Cunha
通讯作者：
J. Malaquias;Paulo Fernandes;P. Salomé;A. D. Cunha
影响因子：
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作者：
C. Khélia;K. Boubaker;T. B. Nasrallah;M. Amlouk;S. Belgacem
通讯作者：
C. Khélia;K. Boubaker;T. B. Nasrallah;M. Amlouk;S. Belgacem