Enhabcement of CsLiB_6O_<10> surface-damage resistance by improved crystallinity and ion-beam etching
Enhabcement of CsLiB_6O_<10> surface-damage resistance by improved crystallinity and ion-beam etching
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通过改善结晶度和离子束蚀刻增强 CsLiB_6O_<10> 表面抗损伤性
DOI：
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Kamimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Peng CHEN;Shinichiro MITSUTAKE;Takashi ISODA;Tielin SHI;T.Kamimura
离子刻蚀改善 CsLiB6O10 晶体激光诱导表面损伤
DOI：
10.1117/12.307000
发表时间：
1998
期刊：
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影响因子：
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作者：
T. Kamimura;M. Yoshimura;T. Inoue;Y. Mori;T. Sasaki;H. Yoshida;M. Nakatsuka;K. Yoshida;K. Deki;M. Horiguchi
通讯作者：
M. Horiguchi