Microscopic Observation of X-ray Irradiation Damages in Ultra-Thin SiO_2 Films
Microscopic Observation of X-ray Irradiation Damages in Ultra-Thin SiO_2 Films
复制标题
超薄SiO_2薄膜X射线辐照损伤的显微观察
DOI：
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Yasuda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Ohmori;T.Goto;H.Ikeda;A.Sakai;S.Zaima;Y.Yasuda
通过扫描隧道显微镜/扫描隧道光谱研究 Si(100)-2×1 表面氧化物的形成
影响因子：
1.5
作者：
H. Ikegami;K. Ohmori;H. Ikeda;H. Iwano;Shigeaki Zaima Shigeaki Zaima;Yukio Yasuda Yukio Yasuda
通讯作者：
Yukio Yasuda Yukio Yasuda
通过扫描隧道显微镜/扫描隧道光谱研究电子注入导致超薄 SiO2 薄膜中陷阱的产生
影响因子：
6.7
作者：
K. Ohmori;S. Zaima;Y. Yasuda
通讯作者：
Y. Yasuda