Load sensitive stable current source for complex precision pulsed electroplating
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用于复杂精密脉冲电镀的负载敏感稳定电流源
DOI：
10.1063/1.5113790
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发表时间：
2019
影响因子：
1.6
通讯作者：
D. Mager
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
O. Nassar ;M.V. Meissner;S. Wadhwa;J.G. Korvink ;D. Mager
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