ヘリコン波プラズマスパッタ法によるBaSi2 薄膜の作製
ヘリコン波プラズマスパッタ法によるBaSi2 薄膜の作製
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螺旋波等离子体溅射法制备BaSi2薄膜
DOI:
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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
末益 崇
中科院分区:
文献类型:
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作者:
横山 晟也;召田 雅実;倉持 豪人;都甲薫;末益 崇
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DOI:
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发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
Maria Vanessa Balois;Norihiko Hayazawa;and Takuo Tanaka,;中村優男
通讯作者:
中村優男
DOI:
10.1380/jsssj.26.362
发表时间:
2005
期刊:
影响因子:
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作者:
T. Itoh;Takehisa Mochizuki
通讯作者:
Takehisa Mochizuki
DOI:
10.3131/jvsj.37.218
发表时间:
1994
期刊:
影响因子:
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作者:
T. Sawada;W. Sugiyama;Kenji Nakamori
通讯作者:
Kenji Nakamori
DOI:
10.3131/jvsj.36.289
发表时间:
1993
期刊:
影响因子:
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作者:
A. Okamoto;M. Yoshitake;T. Nosaka;Yoshihiko Suzuki;S. Ogawa
通讯作者:
S. Ogawa
DOI:
10.1016/0040-6090(96)08699-3
发表时间:
1996
期刊:
影响因子:
--
作者:
A. Okamoto;T. Nosaka;M. Yoshitake;Yoshihiko Suzuki;S. Ogawa
通讯作者:
S. Ogawa