ヘリコン波プラズマスパッタ法によるBaSi2 薄膜の作製

ヘリコン波プラズマスパッタ法によるBaSi2 薄膜の作製
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螺旋波等离子体溅射法制备BaSi2薄膜

DOI:
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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
末益 崇
末益 崇
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
横山 晟也;召田 雅実;倉持 豪人;都甲薫;末益 崇

文献摘要

参考文献

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