K. Tokuda: J.Elecevoanal.Chem.
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K. Tokuda：J.Elecevoanal.Chem。
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
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作者：
改进的希尔排序
DOI：
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发表时间：
1992
期刊：
IFIP Congress
影响因子：
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作者：
N. Tokuda
通讯作者：
N. Tokuda
$nleq16$ 元素的希尔排序中的最优间隙序列
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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作者：
Ying Wai Lee
通讯作者：
Ying Wai Lee