Reliability Control of Silicon Dioxide Films by Radical and Thermal Oxidation
Reliability Control of Silicon Dioxide Films by Radical and Thermal Oxidation
复制标题
通过自由基氧化和热氧化控制二氧化硅薄膜的可靠性
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Yamabe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Z.Lu;S.Sato;R.Hasunuma;K.Yamabe
高电场应力湿法刻蚀二氧化硅时观察表面微观粗糙度
影响因子：
1.5
作者：
K. Yamabe;L. Kai;M. Murata
通讯作者：
M. Murata