Improving the sensitivity and line edge roughness in inorganic positive electron beam resist
Improving the sensitivity and line edge roughness in inorganic positive electron beam resist
复制标题
提高无机正电子束光刻胶的灵敏度和线边缘粗糙度
DOI：
10.1016/j.mee.2007.01.144
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发表时间：
2007
影响因子：
2.3
通讯作者：
K. Ishikawa
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kenta Ogino;J. Taniguchi;S. Satake;Keisuke Yamamoto;Y. Ishii;K. Ishikawa
利用基板电压变化的3D压印技术
DOI：
--
发表时间：
2004
期刊：
Applied Surface Science 238
影响因子：
--
作者：
Y.Nakayama;L.Pan;O.Suekane;T.Nosaka;T.Nosaka Toshikazu;Jun Taniguchi et al.
通讯作者：
Jun Taniguchi et al.