N_2O removal in N_2 or air by ArF excimer laser photolysis at atmospheric pressure
N_2O removal in N_2 or air by ArF excimer laser photolysis at atmospheric pressure
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常压ArF准分子激光光解去除N_2或空气中的N_2O
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Hamagami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Tsuji;J.Kumagae;T.Tsuji;T.Hamagami
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使用 193 nm 准分子激光光解氧分子形成臭氧
影响因子：
2.9
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通讯作者：
M. Tsuji;Jun Kumagae;K. Nakano;Toshinori Matsuzaki;T. Tsuji
NO A 2Σ+v′=0–5 和 D 2Σ+v′=0–3 的辐射率和预解离率
DOI：
--
发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
--
作者：
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通讯作者：
D. Crosley
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作者：
K. Shibuya;F. Stuhl
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