Maskless selective epitaxy of InGaN by an InGa low energy focused ion beam and dimethylhydrazine
Maskless selective epitaxy of InGaN by an InGa low energy focused ion beam and dimethylhydrazine
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采用 InGa 低能聚焦离子束和二甲肼进行 InGaN 无掩模选择性外延
DOI:
10.1016/s0022-0248(01)00746-1
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发表时间:
2001
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
K. Pak
中科院分区:
文献类型:
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作者:
D. H. Cho;M. Tanaka;K. Pak
DOI:
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发表时间:
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期刊:
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作者:
通讯作者:
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