Direct patterning of Si wafers using a scanning atmospheric-pressure microplasma jet
Direct patterning of Si wafers using a scanning atmospheric-pressure microplasma jet
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使用扫描大气压微等离子体射流直接图案化硅晶圆
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发表时间:
2004
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
T. Ideno
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Nakasako M.;Tokutomi;S.;S. Kawata;T. Sakurai;T. Ideno
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DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
Transactions of the Materials Research Society of Japan 33
影响因子:
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作者:
T. Asano;et al.
通讯作者:
et al.
DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
Chem Phys.Lett. 466
影响因子:
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作者:
Md.Abu Sayed;Hidetaka Uno;Kensuke Harada;Keiichi Tanaka;Yong-Hoon Kim;Yuichiro Nakaoki;Koji Okumura;Ryugo Tero;Tsuneo Urisu
通讯作者:
Tsuneo Urisu
DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
影响因子:
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作者:
M. Nishizawa;H. Kaji;K. Takoh;T. Matsue
通讯作者:
T. Matsue
DOI:
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发表时间:
1983
期刊:
European Journal of Biochemistry
影响因子:
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作者:
Venyaminov SYu;M. Metsis;M. Chernousov;V. Koteliansky
通讯作者:
V. Koteliansky
DOI:
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发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
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作者:
T;Asano;浅野 豪文;Toshifumi Asano;Toshifumi Asano;浅野 豪文;浅野 豪文;Toshifumi Asano
通讯作者:
Toshifumi Asano