Evaluation of RF magnetron-sputtered calcium phosphate coating films on blast-treated titanium substrates
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喷砂处理钛基体上射频磁控溅射磷酸钙镀膜的评价
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
T. Narushima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Tanaka;M.Matsumoto;S.Ishihara;田中孝佳;田中孝佳;K. Ueda;K. Ueda;K. Ueda;K. Ueda;成島 尚之;Takayuki Narushima;Mitustaka Sato;Kyosuke Ueda;Kyosuke Ueda;Kyosuke Ueda;Mitsutaka Sato;Takayuki Narushima;佐藤充孝;Takayuki Narushima;Takayuki Narushima;Takayuki Narushima;Tomoyuki Katsube;Kyosuke Ueda;K. Ueda;K. Ueda;成島 尚之;K. Ueda;T. Narushima
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Ti、ZrO2 涂层的 Ti 和 TPS 涂层的 Ti 基体上羟基磷灰石涂层的结合强度、成分和结构特性。
DOI：
10.1002/jbm.a.10431
发表时间：
2003
期刊：
Journal of biomedical materials research. Part A.
影响因子：
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作者：
Yang,Yunzhi;Ong,JooL
通讯作者：
Ong,JooL
影响因子：
14
作者：
Y. Yang;K. Kim;J. Ong
通讯作者：
Y. Yang;K. Kim;J. Ong
影响因子：
4
作者：
Ueda, Kyosuke;Narushima, Takayuki;Katsube, Tomoyuki
通讯作者：
Katsube, Tomoyuki
医用射频磁控溅射镀钛磷酸钙薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
Materials Science Forum 539-543
影响因子：
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作者：
T.Tanaka;M.Matsumoto;S.Ishihara;田中孝佳;田中孝佳;K. Ueda;K. Ueda;K. Ueda;K. Ueda;成島 尚之;Takayuki Narushima
通讯作者：
Takayuki Narushima
放电功率水平对射频磁控溅射 Ti6Al4V 沉积羟基磷灰石薄膜性能的影响
DOI：
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发表时间：
1995
期刊：
Journal of Biomedical Materials Research
影响因子：
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作者：
K. van Dijk;H. Schaeken;J. Wolke;C. Marée;F. Habraken;J. Verhoeven;J. Jansen
通讯作者：
J. Jansen