Correlation-Based Watermarking Scheme Using Complete Complementary Code
Correlation-Based Watermarking Scheme Using Complete Complementary Code
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使用完整互补码的基于相关性的水印方案
DOI：
10.14257/ijmue.2013.8.6.08
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发表时间：
2013-11
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
JongWeon Kim
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
De Li(李德);WenJi Quan;JongWeon Kim
先前已经提出了具有扩频序列（SS）的数字水印技术。然而，在以前的研究中使用的SS序列不一定具有良好的相关性。前人的研究也提出了具有理想自相关和互相关特性的完全互补码（CCC），以及完全互补码的构造和扩展方法。然而，在研究中的一些方法不具有良好的自相关或互相关特性。本文利用最新的完全互补码构造器从水印图像中检测出嵌入的秘密信息。在实验结果中，我们成功地检测出秘密信息的水印对各种攻击。
Digital watermarking technologies with spread spectrum sequences (SS) have previously proposed. However, the SS sequences used in previous studies do not necessarily have good correlation properties. The previous studies also have proposed the complete complementary codes (CCC), which have an ideal auto-correlation and cross-correlation properties and methods for the construction and extension of the complete complementary codes. However, some methods in the studies do not have good auto-correlation or crosscorrelation properties. In this paper, we used the latest complete complementary code constructor to detect the embedded secret information from the watermarked images. In the experimental results, we successfully detected the secret information from the watermark against various attacks.
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DOI：
--
发表时间：
2007
期刊：
Journal of Hebei University of Technology
影响因子：
--
作者：
Li Shu-feng
通讯作者：
Li Shu-feng
DOI：
10.1109/iwsda.2009.5346410
发表时间：
2009-12
期刊：
2009 Fourth International Workshop on Signal Design and its Applications in Communications
影响因子：
--
作者：
Y. Horii;T. Kojima
通讯作者：
Y. Horii;T. Kojima
DOI：
10.1109/glocom.2007.741
发表时间：
2007-12
期刊：
IEEE GLOBECOM 2007 - IEEE Global Telecommunications Conference
影响因子：
--
作者：
Xing Yang;Yong Mo;Daoben Li;Mingzhe Bian
通讯作者：
Xing Yang;Yong Mo;Daoben Li;Mingzhe Bian
影响因子：
6.6
作者：
Chao Zhang;Chenggao Han;Yiting Liao;Xiaokang Lin;M. Hatori
通讯作者：
Chao Zhang;Chenggao Han;Yiting Liao;Xiaokang Lin;M. Hatori
DOI：
10.1109/icme.2008.4607418
发表时间：
2008-04
期刊：
2008 IEEE International Conference on Multimedia and Expo
影响因子：
--
作者：
Qiwen Liu;C. Khirallah;L. Stanković;V. Stanković
通讯作者：
Qiwen Liu;C. Khirallah;L. Stanković;V. Stanković