High-Temperature Properties of Silicon Nitride with Lu-Si-O-N Grain Boundary Phases
High-Temperature Properties of Silicon Nitride with Lu-Si-O-N Grain Boundary Phases
复制标题
Lu-Si-O-N晶界相氮化硅的高温性能
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y.Yamamoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Norio Tsubokawa;坪川紀夫;Norio Tsubokawa;Norio Tsubokawa;N.Tsubokawa;N.Tsubokawa;N.Tsubokawa;Y.Yamamoto
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影响因子：
3.9
作者：
Shuqi Guo;N. Hirosaki;T. Nishimura;Yoshinobu Yamamoto;M. Mitomo
通讯作者：
Shuqi Guo;N. Hirosaki;T. Nishimura;Yoshinobu Yamamoto;M. Mitomo
Si3N4–SiO2–Lu2O3 体系中的相关系
影响因子：
3.9
作者：
N. Hirosaki;Yoshinobu Yamamoto;T. Nishimura;M. Mitomo;J. Takahashi;H. Yamane;M. Shimada
通讯作者：
M. Shimada
热压氮化硅
影响因子：
3.9
作者：
G. Gazza
通讯作者：
G. Gazza
Yb2O3−SiO2−掺杂热压氮化硅在 1200 至 1500°C 之间的氧化行为和强度退化
DOI：
10.1080/01418610208239632
发表时间：
2002
期刊：
Philosophical Magazine A
影响因子：
--
作者：
Shuqi Guo;N. Hirosaki;T. Nishimura;Yoshinobu Yamamoto;M. Mitomo
通讯作者：
M. Mitomo
不同添加剂含量的Y2O3-Nd2O3掺杂氮化硅的蠕变和应力断裂行为
影响因子：
5.7
作者：
Jian Cao;A. Okada;N. Hirosaki
通讯作者：
N. Hirosaki