CO+NH_3 plasma etching for magnetic thin films
CO+NH_3 plasma etching for magnetic thin films
复制标题
磁性薄膜的CO NH_3等离子体刻蚀
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hitoshi Kubota
中科院分区：
文献类型：
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作者：
E.S.Otabe;I.Kohno;M.Kiuchi;T.Matsushita;T.Nomura;T.Motohashi;M.Karppinen;H.Yamauchi;S.Okayasu;Y.Sasaki;Hitoshi Kubota
CO/NH3 高密度等离子体中 NiFe 和 NiFeCo 的图案化
DOI：
10.1116/1.581615
发表时间：
1999
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
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作者：
K. B. Jung;J. Hong;Hyun Cho;S. Onishi;D. Johnson;Y. Park;J. Childress;S. Pearton
通讯作者：
S. Pearton
射频等离子体中中性自由基的外观质谱分析
DOI：
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发表时间：
1992
期刊：
影响因子：
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作者：
H. Sugai;H. Toyoda
通讯作者：
H. Toyoda