High-Density ECR Plasma Production with Argon Addition for Negative Ion Sources
High-Density ECR Plasma Production with Argon Addition for Negative Ion Sources
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添加氩气用于负离子源的高密度 ECR 等离子体生产
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Sakai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R.Araya;K.Tani;T.Takagi;N.Yamaguchi;M.Nasu;Y.Satoh et al.;T.Sakai
负氢离子源中氩气添加剂的影响
影响因子：
1.6
作者：
M. Bacal;M. Nishiura;M. Sasao;M. Hamabe;M. Wada;H. Yamaoka
通讯作者：
H. Yamaoka
低压氢等离子体中真空紫外发射和 H− 产生的电子能量依赖性
影响因子：
1.6
作者：
O. Fukumasa;Norihisa Mizuki;Eiji Niitani
通讯作者：
Eiji Niitani