Effect of the film thickness on electron stimulated desorption yield from Ti-Zr-V coating
Effect of the film thickness on electron stimulated desorption yield from Ti-Zr-V coating
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薄膜厚度对 Ti-Zr-V 涂层电子刺激解吸产率的影响
DOI：
10.1088/1748-0221/17/08/p08025
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发表时间：
2022-08
影响因子：
1.3
通讯作者：
S. Wang
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y. Gao;O.B. Malyshev;R. Valizadeh;J. Wang;A. Hannah;Y.C. Hu;J. Zhang;Q.Y. Sun;Q.Y. Si;S. Wang
摘要 非蒸发吸气剂（NEG）涂层具有均匀分布泵浦、低热释气率和低光子/电子/离子刺激解吸产率等优点，多年来在粒子加速器中得到广泛应用。我们早期的工作已经证明 Ti-Zr-V 涂层在 0.1-1 μm 范围内的不同厚度会影响其泵浦性能。在本研究中，研究了厚度小于 0.5 μm 的扭曲靶材沉积的 Ti-Zr-V 涂层的电子刺激解吸 (ESD) 产率，同时还测量了未涂层样品作为参考。 H 2 、CH 4 、CO 和 CO 2 的 ESD 产率作为电子累积剂量的函数进行测量，电子累积剂量高达 ~2 × 10 24 e - /m 2 ，然后通过加热至 80、120、140、180 和 250°C 进行烘烤/激活。每次 ESD 实验后，样品均被 H 2 、CO 和 CO 2 的混合物完全饱和。在加热/活化至 H 2 高达 180°C、CH 4 高达 250°C、CO 高达 140°C 和 CO 2 高达 120°C 的温度后，两种 NEG 涂覆样品均表现出比未涂覆样品更低的值。活化至 140°C 是达到较低压力并避免 NEG 涂层快速老化的最有效方法。仅在激活至 180°C 后，较薄的 NEG 涂层与较厚的 NEG 涂层相比，其 ESD 产量显着降低，而在较低温度下每种气体的 ESD 产量几乎相同。
Abstract With the benefits of evenly distributed pumping, low thermal outgassing rate and low photon-/electron-/ion stimulated desorption yields, non-evaporable getter (NEG) coating has been widely used in particle accelerators for many years. Our earlier work has demonstrated the different thickness of Ti-Zr-V coating in the range of 0.1–1 μm affects its pumping properties. In this study, the electron stimulated desorption (ESD) yields were studied for Ti-Zr-V coating deposited from a twisted target with its thickness less than 0.5 μm, while an uncoated sample was also measured as a reference. The ESD yields for H 2 , CH 4 , CO and CO 2 were measured as a function of electron accumulated dose up to ∼2 × 10 24 e - /m 2 followed bakeout/activation by heating to 80, 120, 140, 180 and 250°C. After each ESD experiment the samples were full saturated with a mix of H 2 , CO and CO 2 . Both NEG coated samples demonstrate lower values in comparison to the uncoated one after heating/activation to temperatures up to 180°C for H 2 , up to 250°C for CH 4 , up to 140°C for CO and 120°C for CO 2 . The activation to 140°C is the most efficient way to reach lower pressure and avoid quick aging of the NEG coating. The thinner NEG coating provides a significantly lower ESD yield in comparison to the thicker one only after activation to 180°C, while their ESD yields are almost identical for each gas at the lower temperature.
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DOI：
10.1116/1.4887035
发表时间：
2014-07
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
O. Malyshev;B. Hogan;M. Pendleton
通讯作者：
O. Malyshev;B. Hogan;M. Pendleton
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Sihui Wang
通讯作者：
Sihui Wang
DOI：
10.1109/pac.2005.1591384
发表时间：
2005-05
期刊：
Proceedings of the 2005 Particle Accelerator Conference
影响因子：
--
作者：
D. Weiss;P. He;H. Hseuh;R. Todd
通讯作者：
D. Weiss;P. He;H. Hseuh;R. Todd
影响因子：
4
作者：
C. Benvenuti;P. Chiggiato;F. Cicoira;V. Ruzinov
通讯作者：
C. Benvenuti;P. Chiggiato;F. Cicoira;V. Ruzinov
DOI：
10.1016/j.nimb.2010.02.114
发表时间：
2010-06
影响因子：
1.3
作者：
M. Bender;H. Kollmus;M. Bellachioma;W. Assmann
通讯作者：
M. Bender;H. Kollmus;M. Bellachioma;W. Assmann