Localization induced by pressure in pyrochlore Bi2Ir2O7
Localization induced by pressure in pyrochlore Bi2Ir2O7
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烧绿石 Bi2Ir2O7 中压力诱导的局域化
DOI：
10.1016/j.ceramint.2017.09.125
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发表时间：
2017-12
影响因子：
5.2
通讯作者：
Yuheng Zhang
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Wei Liu;Hui Han;Langsheng Ling;Long Ma;Li Pi;Lei Zhang;Yuheng Zhang
本文研究了Bi2Ir2O7在静水压下的电阻率和磁化强度。在常压下，Bi2Ir2O7的电阻率随温度的降低呈现金属行为。当施加压力时，在∼0.48 Gpa的压力下，金属-绝缘体在低温下发生相变。金属-绝缘体相变温度(TMI)随压力呈线性增加，dTMI/Dp=3.4±0.3K/GPa.压力绝缘相的电阻率[ρ(T)]与温度的关系表现为热激活行为(ρ=ρ0 eΔE/k BT)，其中热激活能(ΔE)随压力单调增加。同时，磁化强度随压力的增加而增强，表明磁有序性增强。结果表明，Bi2Ir2O7的局域化是由于压力引起的磁有序引起的，从而证实了Bi2Ir2O7的磁电耦合
In this work, the resistivity and magnetization of Bi 2 Ir 2 O 7 are investigated under hydrostatic pressure. At ambient pressure, the resistivity of Bi 2 Ir 2 O 7 exhibits a metallic behavior with the decrease of temperature. When the pressure is applied, a metal-insulator phase transition at low temperature is induced under a pressure of∼ 0.48 GPa. The metal-insulator phase transition temperature (T MI) increases linearly with pressure as d T MI/dP= 3.4±0.3 K/GPa. The temperature dependence of resistivity [ρ (T)] in the pressure-induced insulating phase exhibits a thermal activation behavior (ρ= ρ 0 e Δ E/k B T), where the thermal activation energy (Δ E) increases monotonously with the pressure. Meanwhile, the magnetization is enhanced by the pressure, which indicates an enhancement of magnetic ordering. The results suggest that localization occurs due to the magnetic ordering induced by the pressure, which confirms the magneto-electronic coupling in Bi 2 Ir 2 O 7
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影响因子：
5.2
作者：
D. Liang;Hui Liu;Ning Liu;L. Ling;Yuyan Han;Lei Zhang;Changjin Zhang
通讯作者：
D. Liang;Hui Liu;Ning Liu;L. Ling;Yuyan Han;Lei Zhang;Changjin Zhang
DOI：
--
发表时间：
2001
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
D. R.
通讯作者：
D. R.
DOI：
10.1103/physrevb.87.195143
发表时间：
2013-03
期刊：
Bulletin of the American Physical Society
影响因子：
--
作者：
Yunsang Lee;S. Moon;S. Riggs;M. Shapiro;I. Fisher;A. Kemper;D. Basov
通讯作者：
Yunsang Lee;S. Moon;S. Riggs;M. Shapiro;I. Fisher;A. Kemper;D. Basov
影响因子：
1.6
作者：
A. Reyes;E. Ahrens;R. Heffner;P. Hammel;J. Thompson
通讯作者：
A. Reyes;E. Ahrens;R. Heffner;P. Hammel;J. Thompson
DOI：
--
发表时间：
2011
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Xiangang Wan;Ari M. Turner;A. Vishwanath
通讯作者：
Xiangang Wan;Ari M. Turner;A. Vishwanath