Development of New X-ray Imaging Device Sensitive to 0.1-100 keV
Development of New X-ray Imaging Device Sensitive to 0.1-100 keV
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开发对0.1-100 keV敏感的新型X射线成像装置
DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
E.Miyata et al.
中科院分区:
文献类型:
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作者:
E.Miyata et al.;E.Miyata et al.
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DOI:
10.1117/12.461276
发表时间:
2003
期刊:
--
影响因子:
--
作者:
N. White;H. Tananbaum
通讯作者:
H. Tananbaum
DOI:
10.1117/12.366501
发表时间:
1999
期刊:
--
影响因子:
--
作者:
N. Meidinger;H. Braeuninger;U. Briel;R. Hartmann;G. Hartner;P. Holl;J. Kemmer;E. Kendziorra;N. Krause;G. Lutz;E. Pfeffermann;M. Popp;C. Reppin;R. Richter;H. Soltau;D. Stoetter;L. Strueder;J. Truemper;C. von Zanthier
通讯作者:
C. von Zanthier
DOI:
10.1117/12.461508
发表时间:
2003
期刊:
--
影响因子:
--
作者:
Y. Tawara;H. Kunieda;H. Inoue;K. Mitsuda;Y. Ogasaka;Tadayuki Takahashi
通讯作者:
Tadayuki Takahashi
影响因子:
1.5
作者:
E. Miyata;K. Tamura
通讯作者:
K. Tamura