Selective Deposition of Polystyrene Nano-particles in the Nanoetchpit-Array on a Silicon Substrate
Selective Deposition of Polystyrene Nano-particles in the Nanoetchpit-Array on a Silicon Substrate
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硅基板上纳米蚀刻坑阵列中聚苯乙烯纳米颗粒的选择性沉积
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.NISHIDE
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.TANAKA;T.HOSAKA;T.TANII;I.OHDOMARI;H.NISHIDE
影响因子：
46.2
作者：
C. Boxall
通讯作者：
C. Boxall
使用超薄 SiO2 掩模在硅表面制造高密度纳米蚀刻坑阵列
影响因子：
1.5
作者：
Meishoku Koh;Souichi Sawara;T. Goto;Yoshinori Ando;T. Shinada;I. Ohdomari
通讯作者：
I. Ohdomari
对紧密聚焦激光束照射的基底附近的球形粒子进行光子力分析
影响因子：
3.2
作者：
W. Inami;Y. Kawata
通讯作者：
Y. Kawata