2-step plasma-enhanced CVD for low-temperature fabrication of silica membranes with high gas-separation performance.
2-step plasma-enhanced CVD for low-temperature fabrication of silica membranes with high gas-separation performance.
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两步等离子体增强 CVD 用于低温制造具有高气体分离性能的二氧化硅膜。
DOI：
10.1039/c1cc12147b
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发表时间：
2011
影响因子：
4.9
通讯作者：
Tomohisa Yoshioka
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. Tsuru;Hironobu Shigemoto;M. Kanezashi;Tomohisa Yoshioka
采用两步等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术，在多孔TiO（2）/Al（2）O（3）基底上制备了非晶SiO2膜。SiO2膜具有良好的分子筛性能，对He/N2和He/H2具有较高的分离因子，并具有较高的热稳定性，表明在低温下成功制备了高性能的SiO2膜。
Amorphous SiO(2) membranes were prepared via a 2-step plasma-enhanced CVD (PECVD) technique at room temperature on porous TiO(2)/Al(2)O(3) substrates. SiO(2) membranes showed molecular sieving properties with a high separation factor for He/N(2) and He/H(2), and high thermal stability, indicating the successful preparation of high-performance membranes at low temperatures.
影响因子：
2.5
作者：
T. Tsuru
通讯作者：
T. Tsuru
反扩散CVD法制备用于蒸汽重整反应的催化剂复合二氧化硅膜反应器
DOI：
--
发表时间：
2006
期刊：
Industrial Engineering Chemistry and Research 45・11
影响因子：
--
作者：
M.;Nomura;et. al.;M.Nomura et al.;M.Nomura et al.
通讯作者：
M.Nomura et al.