Ion beam sputter deposition of Ge films: Influence of process parameters on film properties
Ion beam sputter deposition of Ge films: Influence of process parameters on film properties
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离子束溅射沉积 Ge 薄膜：工艺参数对薄膜性能的影响
DOI：
10.1016/j.tsf.2015.06.017
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
H. Neumann
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
C. Bundesmann;R. Feder;R. Wunderlich;U. Teschner;M. Grundmann;H. Neumann
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影响因子：
1.5
作者：
M. Shiojiri;Yoshio Saito;H. Okada;Hiromi Sasaki
通讯作者：
M. Shiojiri;Yoshio Saito;H. Okada;Hiromi Sasaki
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DOI：
--
发表时间：
1980
期刊：
影响因子：
--
作者：
D. Aspnes;A. A. Studna
通讯作者：
A. A. Studna
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DOI：
--
发表时间：
1970
期刊：
影响因子：
--
作者：
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通讯作者：
W. Spicer
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DOI：
10.1016/j.nimb.2013.09.007
发表时间：
2013
影响因子：
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通讯作者：
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DOI：
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发表时间：
1993
期刊：
影响因子：
--
作者：
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通讯作者：
L. Díaz