Combinatorial Arc Plasma Deposition of Thin Film.
Combinatorial Arc Plasma Deposition of Thin Film.
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薄膜的组合电弧等离子体沉积。
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akira Shimokohbe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Seiichi Hata;Ryusuke Yamauchi;Junpei Sakurai;Akira Shimokohbe
三元 La2O3-Mn2O3-Co3O4 组合物的组合制备和表征
影响因子：
1.5
作者：
D. Kukuruznyak;P. Ahmet;A. Yamamoto;F. Ohuchi;T. Chikyow
通讯作者：
T. Chikyow
交流溅射制备高温Bi-Sr-Ca-Cu-O超导薄膜
影响因子：
1.5
作者：
H. Koinuma;M. Kawasaki;S. Nagata;K. Takeuchi;K. Fueki
通讯作者：
K. Fueki