Direct acquisition of interferogram by stage scanning in electron interferometry.
Direct acquisition of interferogram by stage scanning in electron interferometry.
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电子干涉测量中通过阶段扫描直接获取干涉图。
DOI：
10.1093/jmicro/dft032
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
1.8
通讯作者：
M. Takeguchi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Dan Lei;K. Mitsuishi;K. Harada;M. Shimojo;Dongying Ju;M. Takeguchi
本文提出了一种电子全息技术来获得干涉图，即相位分布的余弦像。通过扫描系统将样品沿一个方向移动，获取全息图的线强度，从而得到干涉图。取线强度消除了全息图中的载波条纹，得到干涉图。在相位物体近似下，物体的相位可以很容易地从干涉图中获得，而不需要任何重建过程。相位的空间分辨率与条纹间距无关，克服了传统傅里叶变换方法的局限性。
We present an electron holography technique to acquire an interferogram, that is, cosine image of phase distribution. The interferogram is constructed by shifting the specimen in one direction with a stage-scanning system and acquiring line intensities of holograms. Taking line intensities eliminates the carrier fringes in the holograms and yields the interferogram. Under phase object approximation, the object phase can be readily obtained from the interferogram without any reconstruction procedure. The spatial resolution of phase is determined independently of the fringe spacing, overcoming the limitation of conventional techniques based on the Fourier transformation method.
用于原子图像重建的相移电子全息术
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
Journal of Electron Microscopy
影响因子：
--
作者：
K.Yamamoto;Y.Sugawara;M.R.McCartney;D.J.Smith
通讯作者：
D.J.Smith
连接纳米线接触电阻对电阻率测量影响的电子全息研究
DOI：
--
发表时间：
2006
期刊：
Surface and Interface Analysis 38
影响因子：
--
作者：
M.Takeguchi;M.Shimojo;M.Tanaka;R.Che;W.Zhang;K.Furuya
通讯作者：
K.Furuya