Electron holographic study of the effect of contact resistance of connected nanowires on resistivity measurement

Electron holographic study of the effect of contact resistance of connected nanowires on resistivity measurement
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连接纳米线接触电阻对电阻率测量影响的电子全息研究

DOI:
--
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发表时间:
2006
期刊:
Surface and Interface Analysis 38
影响因子:
--
通讯作者:
K.Furuya
K.Furuya
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
M.Takeguchi;M.Shimojo;M.Tanaka;R.Che;W.Zhang;K.Furuya

文献摘要

参考文献

被引文献

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