Electron holographic study of the effect of contact resistance of connected nanowires on resistivity measurement
Electron holographic study of the effect of contact resistance of connected nanowires on resistivity measurement
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连接纳米线接触电阻对电阻率测量影响的电子全息研究
DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
K.Furuya
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
M.Takeguchi;M.Shimojo;M.Tanaka;R.Che;W.Zhang;K.Furuya
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影响因子:
4
作者:
I. Utke;A. Luisier;P. Hoffmann;D. Laub;P. Buffat
通讯作者:
P. Buffat
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
影响因子:
--
作者:
M. Takeguchi;M. Shimojo;K. Furuya
通讯作者:
K. Furuya
DOI:
10.1007/s00339-003-2394-z
发表时间:
2004
期刊:
Applied Physics A
影响因子:
--
作者:
Miyoko Tanaka;M. Shimojo;K. Mitsuishi;K. Furuya
通讯作者:
K. Furuya
影响因子:
2.2
作者:
K. Mitsuishi;Z. Q. Liu;M. Shimojo;M. Han;K. Furuya
通讯作者:
K. Furuya
影响因子:
1.6
作者:
Han, M;Mitsuishi, K;Furuya, K
通讯作者:
Furuya, K