Post-processing of spin-coated organic thin films in solvent vapors with controlled partial pressure.
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在受控分压的溶剂蒸气中对旋涂有机薄膜进行后处理。
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
T.Shimada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Kwauchi;M. Matsumoto;K. Fukutani;T. Okano;Y. Suetsugu;X. W. Zhang;Y. Yoda;T.Shimada
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