Enhanced luminescence of CuI thin film scintillator by reducing Fresnel reflection
Enhanced luminescence of CuI thin film scintillator by reducing Fresnel reflection
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通过减少菲涅耳反射增强 CuI 薄膜闪烁体的发光
DOI：
10.1016/j.nima.2012.12.117
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发表时间：
2013-04
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Hong Chen
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Fei Tong;Zhichao Zhu;Bo Liu;Yasha Yi;Mu Gu;Hong Chen
CuI薄膜闪烁体由于其快速发光特性在辐射探测系统中具有潜在的应用价值。由于其折射率大，严重的菲涅耳反射降低了其外量子效率。本文设计了一种SiO_2纳米涂层，有效地消除了菲涅耳反射，提高了发光强度。得到了全方位集成时以最大透过率为目标的最佳涂层厚度。通过折射率梯度涂层减少的菲涅耳反射是基于梯度折射率和干涉效应。在发射峰波长处，有一层陶瓷涂层的发光强度提高了20%。
CuI thin film scintillator has potential applications in radiation detection systems due to its fast component of luminescence. Severe Fresnel reflection due to its large refractive index decreases its external quantum efficiency. In this article, we design an antireflection coating of SiO2to efficiently eliminate Fresnel reflection and thus improve luminescence intensity. The optimal thickness of coating aimed at the maximum transmission for the omni-directional integration is obtained. The reduced Fresnel reflection by the antireflection coating is based upon the gradient-index and the interference effect. The luminescence intensity with an antireflection coating is increased by 20% at the emission peak wavelength.
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