CMOS application of single-grain thin-film transistor produced using metal imprint technology
CMOS application of single-grain thin-film transistor produced using metal imprint technology
复制标题
金属压印技术生产的单晶薄膜晶体管的CMOS应用
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Asano
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Makihira;M.Yoshii;T.Asano
用于智能功率 IC 应用的 0.3 µm 多晶硅 CMOS 电路评估
影响因子：
1.5
作者：
T. Matsudai;M. Terauchi;M. Yoshimi;N. Yasuhara;Y. Ushiku;A. Nakagawa
通讯作者：
A. Nakagawa