Marginal adaptation of self-etch adhesives by 3D optical coherence tomography
Marginal adaptation of self-etch adhesives by 3D optical coherence tomography
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通过 3D 光学相干断层扫描对自蚀刻粘合剂进行边缘调整
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Tagami J
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Makishi P;Shimada Y;Sadr A;Sumi Y;Tagami J
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影响因子：
2.2
作者：
B. Van Meerbeek;J. de Munck;Y. Yoshida;S. Inoue;M. Vargas;P. Vijay;Kirsten L. Van Landuyt;P. Lambrechts;G. Vanherle
通讯作者：
B. Van Meerbeek;J. de Munck;Y. Yoshida;S. Inoue;M. Vargas;P. Vijay;Kirsten L. Van Landuyt;P. Lambrechts;G. Vanherle
影响因子：
2.2
作者：
H. Sano;M. Yoshiyama;S. Ebisu;M. Burrow;T. Takatsu;B. Ciucchi;R. Carvalho;D. Pashley
通讯作者：
H. Sano;M. Yoshiyama;S. Ebisu;M. Burrow;T. Takatsu;B. Ciucchi;R. Carvalho;D. Pashley
影响因子：
3.3
作者：
Kihn Pw;S. Pa;Von Fraunhofer Ja
通讯作者：
Von Fraunhofer Ja
影响因子：
4.4
作者：
Opdam, NJM;Roeters, FJM;Verdonschot, EH
通讯作者：
Verdonschot, EH
DOI：
10.14219/jada.archive.2009.0098
发表时间：
2009-12-01
影响因子：
3.9
作者：
Gordan, Valeria V.;Garvan, Cynthia W.;Mjoer, Ivar A.
通讯作者：
Mjoer, Ivar A.