GAS ELECTRON MULTIPLIER PRODUCED WITH THE PLASMA ETCHING METHOD
GAS ELECTRON MULTIPLIER PRODUCED WITH THE PLASMA ETCHING METHOD
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等离子刻蚀法制作的气体电子倍增器
DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
T.Isobe
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
M.Inuzuka;H.Hamagaki;K.Ozawa;T.Tamagawa;T.Isobe
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DOI:
10.1109/nssmic.1998.775210
发表时间:
1998
期刊:
1998 IEEE Nuclear Science Symposium Conference Record. 1998 IEEE Nuclear Science Symposium and Medical Imaging Conference (Cat. No.98CH36255)
影响因子:
--
作者:
H. Cho;J. Kadyk;S.H. Han;W. Hong;V. Perez;W. Wenzel;K. Pitts;M.D. Martin;J. Hutchins
通讯作者:
J. Hutchins
DOI:
10.1016/s0168-9002(99)01200-0
发表时间:
2000
影响因子:
1.4
作者:
A. Breskin;T. Boutboul;A. Buzulutskov;R. Chechik;E. S. Garty;B. K. Singh
通讯作者:
B. K. Singh
DOI:
10.1016/s0168-9002(03)01050-7
发表时间:
2003
期刊:
影响因子:
--
作者:
F. Sauli
通讯作者:
F. Sauli
DOI:
10.1016/s0168-9002(02)01457-2
发表时间:
2002
影响因子:
1.4
作者:
B. Ketzer
通讯作者:
B. Ketzer
DOI:
10.1016/s0168-9002(99)00805-0
发表时间:
1999
影响因子:
1.4
作者:
W. Pitts;Michael D. Martin;S. Belolipetskiy;M. Crain;J. Hutchins;S. Matos;K. Walsh;K. Solberg
通讯作者:
K. Solberg