Radiation hard pixel sensors using high-resistive wafers in a 150 nm CMOS processing line
Radiation hard pixel sensors using high-resistive wafers in a 150 nm CMOS processing line
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在 150 nm CMOS 加工线上使用高阻晶圆的辐射硬像素传感器
DOI：
10.1088/1748-0221/12/06/p06020
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发表时间：
2017
影响因子：
1.3
通讯作者：
N. Wermes
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
D. -L. Pohl;T. Hemperek;F. Hügging;J. Janssen;H. Krüger;A. Macchiolo;N. Owtscharenko;I. Caicedo Sierra;L. Vigani;N. Wermes
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DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
G. McGoldrick;M. Červ;A. Gorišek
通讯作者：
A. Gorišek
DOI：
10.1016/j.nima.2015.02.005
发表时间：
2015
期刊：
Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment
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--
作者：
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通讯作者：
Dervan P
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DOI：
10.1016/j.nima.2010.11.186
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1.4
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通讯作者：
T. Wittig
DOI：
--
发表时间：
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影响因子：
--
作者：
M. Havranek;F. Hügging;H. Krüger;N. Wermes
通讯作者：
N. Wermes
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DOI：
--
发表时间：
2011
期刊：
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--
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通讯作者：
N. Wermes