Curvature-Adjustable Polymeric Nanolens Fabrication Using UV-Controlled Nanoimprint Lithography.
Curvature-Adjustable Polymeric Nanolens Fabrication Using UV-Controlled Nanoimprint Lithography.
复制标题
DOI：
10.3390/mi13122183
复制
发表时间：
2022-12-09
期刊：
影响因子：
3.4
通讯作者：
Kim J
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Li Q;Ji MG;Chapagain A;Cho IH;Kim J
纳米透镜在纳米技术中越来越重要，但它们的制造具有挑战性，阻碍了它们的更广泛采用。尤其具有挑战性的是如何方便地控制镜头的曲率。在这项工作中，我们展示了一种新的纳米印迹技术，能够实现聚合物纳米透镜，其中纳米透镜的曲率通过预固化步骤中的紫外线(UV)剂量来光学控制。我们的结果揭示了纳米粒子的高度随紫外线剂量线性变化的区域。计算模型进一步揭示了聚合物在紫外光控制的纳米印迹过程中经历了高度非线性的动力学过程。这项技术和工艺模型都将极大地推动纳米科学和制造技术的发展。
Nanolenses are gaining importance in nanotechnology, but their challenging fabrication is thwarting their wider adoption. Of particular challenge is facile control of the lens’ curvature. In this work, we demonstrate a new nanoimprinting technique capable of realizing polymeric nanolenses in which the nanolens’ curvature is optically controlled by the ultraviolet (UV) dose at the pre-curing step. Our results reveal a regime in which the nanolens’ height changes linearly with the UV dose. Computational modeling further uncovers that the polymer undergoes highly nonlinear dynamics during the UV-controlled nanoimprinting process. Both the technique and the process model will greatly advance nanoscale science and manufacturing technology.
登录
查看更多内容
影响因子：
16.6
作者：
Li Q;Peer A;Cho IH;Biswas R;Kim J
通讯作者：
Kim J
影响因子：
13.3
作者：
Bao, Lei;Rezk, Amgad R.;Zhang, Xuehua
通讯作者：
Zhang, Xuehua
影响因子：
4.6
作者：
Lee, TY;Guymon, CA;Hoyle, CE
通讯作者：
Hoyle, CE
使用不同微/纳米比率的印模进行紫外纳米压印光刻的抗蚀剂填充研究
影响因子：
3.4
作者：
Yin, Minqi;Sun, Hongwen;Wang, Haibin
通讯作者：
Wang, Haibin
影响因子：
10.8
作者：
Li, Qiang;Cho, In Ho;Kim, Jaeyoun
通讯作者：
Kim, Jaeyoun