Recent Advances in Synthesis and Study of 2D Twisted Transition Metal Dichalcogenide Bilayers
Recent Advances in Synthesis and Study of 2D Twisted Transition Metal Dichalcogenide Bilayers
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二维扭曲过渡金属二硫属化物双层的合成与研究新进展
DOI：
10.1002/sstr.202000153
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发表时间：
2021-03
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Zheng Liu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Bijun Tang;Bingyu Che;Manzhang Xu;Zhi Peng Ang;Jun Di;Hong-Jun Gao;Haitao Yang;Jiadong Zhou;Zheng Liu
近年来，扭曲的二维过渡金属二硫属化物（TMD）由于其有趣的特性而吸引了巨大的研究兴趣，这些特性对于在这个现代化时代开发未来的电子和光电子器件至关重要。本文介绍了扭曲TMD（t-TMD）双层膜的制备方法、光致发光（PL）光谱、拉曼光谱等技术对扭曲TMD双层膜性质的研究进展以及与之相关的独特物理现象。首先，通过两步堆积法和一步化学气相沉积法合成t-TMD双层膜的各种策略进行了综述。然后，介绍了常用的表征技术在探测扭曲层之间的层间耦合。此外，有趣的物理性质与扭曲，如层间激子和相关的电子相位进行了总结。最后，根据该领域的最新进展，简要讨论了面临的挑战和未来的研究方向。
In recent years, twisted 2D transition metal dichalcogenides (TMDs) have attracted tremendous research interest thanks to their intriguing properties that are essential in developing future electronic and photoelectronic devices in this modernizing era. The aim of this review is to introduce recent developments in the preparation of twisted TMD (t‐TMD) bilayers, their properties investigated by photoluminescence (PL) spectroscopy, Raman spectroscopy, and other techniques, as well as the related distinctive physical phenomena. First, various strategies for synthesizing t‐TMD bilayers via the two‐step stacking method and one‐step chemical vapor deposition method are reviewed. Then, the commonly used characterization techniques in probing the interlayer coupling between the twisted layers are introduced. Moreover, the intriguing physical properties associated with twisting such as interlayer excitons and correlated electronic phases are summarized. Last but not least, challenges and future research directions are briefly discussed in light of recent advances in the field.
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用于构建层间耦合范德华异质结构的大规模二维层状材料的确定性和免蚀刻转移
影响因子：
6.8
作者：
Tao Li;Li Hao;Gao Yun;Chen Zefeng;Wang Lei;Deng Ya;Zhang Jian;Xu Jian-Bin
通讯作者：
Xu Jian-Bin
DOI：
10.1039/c6cp08927e
发表时间：
2016-06
期刊：
Physical chemistry chemical physics : PCCP
影响因子：
--
作者：
K. Zhou;D. Wickramaratne;Supeng Ge;Shanshan Su;A. De;R. Lake
通讯作者：
K. Zhou;D. Wickramaratne;Supeng Ge;Shanshan Su;A. De;R. Lake
影响因子：
41.2
作者：
Wang, Lei;Shih, En-Min;Dean, Cory R.
通讯作者：
Dean, Cory R.
影响因子：
16.6
作者：
Rivera, Pasqual;Schaibley, John R.;Xu, Xiaodong
通讯作者：
Xu, Xiaodong
影响因子：
38.3
作者：
Sung, Jiho;Zhou, You;Park, Hongkun
通讯作者：
Park, Hongkun