Calibration of Imaging Plate for High-Energy Electrons
Calibration of Imaging Plate for High-Energy Electrons
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高能电子成像板的校准
DOI：
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Takahashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Takahashi
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25 μm像素尺寸透射电子显微镜成像板的灵敏度和衰落特性
DOI：
10.1093/oxfordjournals.jmicro.a023437
发表时间：
1996
期刊：
Journal of Electron Microscopy
影响因子：
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作者：
A. Taniyama;D. Shindo;T. Oikawa
通讯作者：
T. Oikawa
用于透射电子显微镜的 25 μm 像素尺寸成像板的检测量子效率
DOI：
10.1093/oxfordjournals.jmicro.a023523
发表时间：
1997
期刊：
Journal of Electron Microscopy
影响因子：
--
作者：
A. Taniyama;D. Shindo;T. Oikawa
通讯作者：
T. Oikawa
影响因子：
64.8
作者：
Kodama, R;Norreys, PA;Zepf, M
通讯作者：
Zepf, M
质子辐照直拉生长硅中的正电子湮灭
影响因子：
1.5
作者：
A. Uedono;Y. Cho;Shoichiro Tanigawa Ikari
通讯作者：
Shoichiro Tanigawa Ikari
成像板的褪色
影响因子：
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作者：
H. Ohuchi
通讯作者：
H. Ohuchi