Laser cooling of the Yb3+-doped LuLiF4 single crystal for optical refrigeration
Laser cooling of the Yb3+-doped LuLiF4 single crystal for optical refrigeration
复制标题
光学制冷用 Yb3 掺杂 LuLiF4 单晶的激光冷却
DOI：
10.1016/j.jlumin.2020.117472
复制
发表时间：
2020-10
影响因子：
3.6
通讯作者：
Jianping Yin
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Biao Zhong;Yongqing Lei;Hao Luo;Yanling Shi;Tao Yang;Jianping Yin
一种无振动的光学制冷制冷机可能在不同的领域具有革命性的应用，因此探索适合于低温以下的激光制冷的新材料至关重要。在这里，我们证明了掺Yb3+的LuLiF4晶体是一种很有前途的材料，可以达到低温极限(123K)甚至更低。当掺Yb3+浓度为7.5%时，掺Yb3+的LuLiF4晶体可以在双程装置中从室温光学降温到141.8 K。掺Yb3+7.5%的LuLiF4晶体具有较高的纯度和激光冷却的多程特性，其温度极限甚至可达K，是一种极具竞争力的低温激光冷却候选材料。·对7.5%Yb：LLf晶体进行了141.8 K的光致冷实验。·确定了Yb：LLF晶体用于激光冷却的最佳泵浦波长。·Yb：LLF晶体可以被光学冷却到低温。
A vibration-free, optical cooling refrigerator may imply revolutionary applications in different fields, therefore it is vital to explore new materials suitable for laser cooling below the cryogenic temperature. Here we demonstrate that the Yb 3+ -doped LuLiF 4 crystal is a promising material that could reach the cryogenic temperature limit (123 K) or even lower. With the doping concentration of 7.5%, the Yb 3+ -doped LuLiF 4 crystal can be optically cooled down from the room temperature to 141.8 K in a double-pass setup. Provided with better purity and multiple-pass of laser cooling in the crystal, the temperature limit can even reach as low as 89 K for the 7.5% Yb 3+ -doped LuLiF 4 crystal, thus making it a competitive candidate for laser cooling below the cryogenic temperature. • Optical cooling of the 7.5% Yb: LLF crystal to 141.8 K was demonstrated. • The optimum pumping wavelength of the Yb: LLF crystal for laser cooling was fixed. • The Yb: LLF crystal can be optically cooled down to cryogenic temperature.
登录
查看更多内容
影响因子：
7.6
作者：
Saeid Rostami;A. Albrecht;A. Volpi;M. Sheik-Bahae
通讯作者：
Saeid Rostami;A. Albrecht;A. Volpi;M. Sheik-Bahae
影响因子：
29.4
作者：
Xuezhe Zhou;Bennett E. Smith;P. Roder;P. Pauzauskie
通讯作者：
Xuezhe Zhou;Bennett E. Smith;P. Roder;P. Pauzauskie
影响因子：
3.8
作者：
S. Melgaard;D. Seletskiy;V. Polyak;Y. Asmerom;M. Sheik-Bahae
通讯作者：
S. Melgaard;D. Seletskiy;V. Polyak;Y. Asmerom;M. Sheik-Bahae
影响因子：
4.6
作者：
Melgaard SD;Albrecht AR;Hehlen MP;Sheik-Bahae M
通讯作者：
Sheik-Bahae M
影响因子：
1.3
作者：
G. Cittadino;A. Volpi;A. Di Lieto;M. Tonelli
通讯作者：
G. Cittadino;A. Volpi;A. Di Lieto;M. Tonelli